O Terminal de Ventilação para Sistemas de Gases de Laboratório TKF 5 6 foi desenvolvido para compradores que comparam conjuntos de válvulas redutoras de pressão para fornecimento de gases de alta pureza, sistemas de gases para processos semicondutores, painéis de gases de laboratório, gabinetes para cilindros e projetos de controle de fluidos industriais. Analise os detalhes e imagens do produto abaixo e compare com outros equipamentos da Kuzu para encontrar opções de fornecimento compatíveis.
Características estruturais do terminal do gabinete de ventilação TKF-5-6:
Adotando um redutor de pressão especial de estágio único TKF-5-6 com uma estrutura combinada de válvula redutora de pressão e válvula de diafragma, o equipamento foi submetido a testes de pressão e detecção de vazamento de amônia;
Manômetro de aço inoxidável de 30 cm, leitura clara;
Instalação utilizando capela de exaustão;
Conexão de saída de ar (opcional).

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Sim. Acesse a Série de Comutação para Fornecimento de Gás em nosso site. Descubra painéis de comutação automatizados, coletores e sistemas de segurança integrados em conformidade com a ISO 13485 para laboratórios/instalações médicas.
Forneça a classificação de proteção IP, a capacidade máxima de carga estática para racks de cilindros e as classificações de zonas à prova de explosão certificadas (por exemplo, ATEX/IECEx Zona 1). Especifique a compatibilidade do material para gases corrosivos (por exemplo, Cl₂, NH₃). Cenários de uso: ambientes perigosos, como laboratórios químicos, armazenamento de gás industrial ou fábricas de semicondutores que exigem contenção de vazamentos e isolamento da fonte de ignição.
Detalhe a precisão da regulação de pressão (por exemplo, ±0,5% FS), as faixas de pressão de entrada/saída (bar) e a capacidade de vazão (Nm³/h). Esclareça a conformidade com a ISO 2503 para sistemas de gases medicinais/laboratoriais. Cenários de uso: Controle de gás de precisão em instrumentos de HPLC, máquinas de corte a laser ou reatores biofarmacêuticos que exigem pressão estável em meio a flutuações de fluxo.
Indique a taxa de retenção de partículas (µm) para válvulas de diafragma VCR, a frequência máxima de ciclagem (ciclos/min) e a viscosidade permitida do fluido (cP). Inclua dados da curva de temperatura/pressão para conjuntos limpos a vapor. Cenários de uso: Manuseio de gás/líquido de altíssima pureza no processamento de wafers semicondutores, produção de vacinas ou instalações nucleares que exigem contaminação zero.