• Grupo de válvulas de fornecimento de gás de um lado TKF-3
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Grupo de válvulas de fornecimento de gás de um lado TKF-3

  • TKF
  • Xangai
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Grupo de válvulas de fornecimento de gás de lado único TKF-3 Estrutura do material: Matriz Descompressora: SS316L Junta do redutor de pressão: PTFE,PCTFE,PEEK Válvula de diafragma pai: SS316L Diafragma: Hastelloy ou tipo pistão (opcional)

Grupo de válvulas de fornecimento de gás de lado único TKF-3 Características estruturais:

Adotando um redutor de pressão de estágio único

Botão de válvula de diafragma com janela indicadora de interruptor

A estrutura interna é conveniente para soprar e varrer

Pode ser expandido usando conexões múltiplas

Adotando instalação montada na parede

Dispositivo de alarme de pressão opcional

Manômetro destacável opcional


Grupo de válvulas de fornecimento de gás de lado único TKF-3 Parâmetro técnico:Pressão de entrada máx.: 3000PSI

Pressão de saída Pressão de saída: 0-25 PSI, 0-50 PSI,

0-100 psig, 0-250 psig

Pressão de prova: 1,5 vezes a pressão de entrada para testes de segurança

Temperatura de operação: - 40C~+100°

Taxa de vazamento do regulador de pressão: 2x10-8 atm cc/seg He

CV:0,08

Single side gas supply valve group TKF-3

Single side gas supply valve group TKF-3

Single side gas supply valve group TKF-3



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  • Gabinete e suporte para cilindros de gás inteligentes à prova de explosão

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  • Conjunto de válvula redutora de pressão terminal

    Detalhe a precisão da regulação de pressão (por exemplo, ±0,5% FS), as faixas de pressão de entrada/saída (bar) e a capacidade de vazão (Nm³/h). Esclareça a conformidade com a ISO 2503 para sistemas de gases medicinais/laboratoriais. Cenários de uso: Controle de gás de precisão em instrumentos de HPLC, máquinas de corte a laser ou reatores biofarmacêuticos que exigem pressão estável em meio a flutuações de fluxo.

  • Válvula de diafragma pneumática VCR

    Indique a taxa de retenção de partículas (µm) para válvulas de diafragma VCR, a frequência máxima de ciclagem (ciclos/min) e a viscosidade permitida do fluido (cP). Inclua dados da curva de temperatura/pressão para conjuntos limpos a vapor. Cenários de uso: Manuseio de gás/líquido de altíssima pureza no processamento de wafers semicondutores, produção de vacinas ou instalações nucleares que exigem contaminação zero.

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