• Conjunto de válvulas de alimentação de gás de um lado TKF 3 para estações de cilindros
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Conjunto de válvulas de alimentação de gás de um lado TKF 3 para estações de cilindros

    O conjunto de válvulas de alimentação de gás TKF 3 de um lado é utilizado em estações de cilindros e salas de fornecimento de gases especiais. O conjunto permite o fornecimento controlado de gás, o gerenciamento de pressão e a organização da instalação do projeto.

    Visão geral técnica do grupo de válvulas de alimentação de gás de um lado TKF 3 para estações de cilindros.

    O Grupo de Válvulas de Abastecimento de Gás de Lado Único TKF 3 para Estações de Cilindros foi desenvolvido para compradores que comparam a Série de Comutação de Abastecimento de Gás Centralizado para fornecimento de gás de alta pureza, sistemas de gás para processos semicondutores, painéis de gás para laboratório, gabinetes para cilindros e projetos de controle de fluidos industriais. Analise os detalhes e imagens do produto abaixo e compare com os equipamentos de fluidos Kuzu relacionados para opções de fornecimento compatíveis.

    Grupo de válvulas de alimentação de gás unilateral TKF-3 Características estruturais:

    Adotar um redutor de pressão de estágio único

    Botão da válvula de diafragma com visor indicador de interruptor

    A estrutura interna facilita o uso de soprador e varredor.

    Pode ser expandido usando conexões de manifold.

    Adotando a instalação montada na parede

    Dispositivo de alarme de pressão opcional

    Manômetro destacável opcional


    Parâmetros técnicos do grupo de válvulas de alimentação de gás de um lado TKF-3:Pressão máxima de entrada: 3000 PSI

    Pressão de saída: 0-25 PSI, 0-50 PSI

    0-100 psig, 0-250 psig

    Pressão de prova: 1,5 vezes a pressão de entrada para testes de segurança.

    Temperatura de operação: -40°C a +100°C

    Taxa de vazamento do regulador de pressão: 2x10-8 atm cc/s He

    CV:0,08




    TKF 3 valve group

    single side gas supply



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    • Como posso visualizar a linha completa de válvulas redutoras de pressão da KUZU?

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    • A KUZU fornece soluções centralizadas de fornecimento de gás?

      Sim. Acesse a Série de Comutação para Fornecimento de Gás em nosso site. Descubra painéis de comutação automatizados, coletores e sistemas de segurança integrados em conformidade com a ISO 13485 para laboratórios/instalações médicas.

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      Forneça a classificação de proteção IP, a capacidade máxima de carga estática para racks de cilindros e as classificações de zonas à prova de explosão certificadas (por exemplo, ATEX/IECEx Zona 1). Especifique a compatibilidade do material para gases corrosivos (por exemplo, Cl₂, NH₃). Cenários de uso: ambientes perigosos, como laboratórios químicos, armazenamento de gás industrial ou fábricas de semicondutores que exigem contenção de vazamentos e isolamento da fonte de ignição.

    • Conjunto de válvula redutora de pressão terminal

      Detalhe a precisão da regulação de pressão (por exemplo, ±0,5% FS), as faixas de pressão de entrada/saída (bar) e a capacidade de vazão (Nm³/h). Esclareça a conformidade com a ISO 2503 para sistemas de gases medicinais/laboratoriais. Cenários de uso: Controle de gás de precisão em instrumentos de HPLC, máquinas de corte a laser ou reatores biofarmacêuticos que exigem pressão estável em meio a flutuações de fluxo.

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      Indique a taxa de retenção de partículas (µm) para válvulas de diafragma VCR, a frequência máxima de ciclagem (ciclos/min) e a viscosidade permitida do fluido (cP). Inclua dados da curva de temperatura/pressão para conjuntos limpos a vapor. Cenários de uso: Manuseio de gás/líquido de altíssima pureza no processamento de wafers semicondutores, produção de vacinas ou instalações nucleares que exigem contaminação zero.

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