Grupo de válvulas de fornecimento de gás de lado único TKF-3 Características estruturais:
Adotando um redutor de pressão de estágio único
Botão de válvula de diafragma com janela indicadora de interruptor
A estrutura interna é conveniente para soprar e varrer
Pode ser expandido usando conexões múltiplas
Adotando instalação montada na parede
Dispositivo de alarme de pressão opcional
Manômetro destacável opcional
Grupo de válvulas de fornecimento de gás de lado único TKF-3 Parâmetro técnico:Pressão de entrada máx.: 3000PSI
Pressão de saída Pressão de saída: 0-25 PSI, 0-50 PSI,
0-100 psig, 0-250 psig
Pressão de prova: 1,5 vezes a pressão de entrada para testes de segurança
Temperatura de operação: - 40C~+100°
Taxa de vazamento do regulador de pressão: 2x10-8 atm cc/seg He
CV:0,08



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Sim. Acesse a Série de Comutação para Fornecimento de Gás em nosso site. Descubra painéis de comutação automatizados, coletores e sistemas de segurança integrados em conformidade com a ISO 13485 para laboratórios/instalações médicas.
Forneça a classificação de proteção IP, a capacidade máxima de carga estática para racks de cilindros e as classificações de zonas à prova de explosão certificadas (por exemplo, ATEX/IECEx Zona 1). Especifique a compatibilidade do material para gases corrosivos (por exemplo, Cl₂, NH₃). Cenários de uso: ambientes perigosos, como laboratórios químicos, armazenamento de gás industrial ou fábricas de semicondutores que exigem contenção de vazamentos e isolamento da fonte de ignição.
Detalhe a precisão da regulação de pressão (por exemplo, ±0,5% FS), as faixas de pressão de entrada/saída (bar) e a capacidade de vazão (Nm³/h). Esclareça a conformidade com a ISO 2503 para sistemas de gases medicinais/laboratoriais. Cenários de uso: Controle de gás de precisão em instrumentos de HPLC, máquinas de corte a laser ou reatores biofarmacêuticos que exigem pressão estável em meio a flutuações de fluxo.
Indique a taxa de retenção de partículas (µm) para válvulas de diafragma VCR, a frequência máxima de ciclagem (ciclos/min) e a viscosidade permitida do fluido (cP). Inclua dados da curva de temperatura/pressão para conjuntos limpos a vapor. Cenários de uso: Manuseio de gás/líquido de altíssima pureza no processamento de wafers semicondutores, produção de vacinas ou instalações nucleares que exigem contaminação zero.