O conjunto de válvula de esfera com terminal radial para montagem em parede TKF 5 3 foi desenvolvido para compradores que comparam conjuntos de válvulas redutoras de pressão para fornecimento de gases de alta pureza, sistemas de gases para processos semicondutores, painéis de gases para laboratórios, gabinetes para cilindros e projetos de controle de fluidos industriais. Analise os detalhes e imagens do produto abaixo e compare com outros equipamentos da Kuzu para encontrar opções de fornecimento compatíveis.
Série de válvulas de esfera simples com terminal radial para montagem em parede, modelo TKF-5-3:
Módulo terminal com válvula de esfera dupla + válvula reguladora de pressão + válvula de três vias + manômetro radial removível (pressão de ar de entrada 25 MPa, pressão de saída 1,6 MPa) + painel de aço inoxidável (tratamento de desengorduramento e limpeza).
Módulo terminal com válvula de esfera dupla + válvula reguladora de pressão + válvula de três vias + manômetro radial destacável (pressão de ar de entrada 25 MPa, pressão de saída 1,0 MPa) + painel de aço inoxidável (tratamento de desengorduramento e limpeza).
Válvula de esfera simples com terminal radial para montagem em parede, série TKF-5-3. Características estruturais:
Estrutura redutora de pressão montada
Fio-mãe: 1/4 "NPT (F)
Pode ser instalado em painel ou na parede.

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Sim. Acesse a Série de Comutação para Fornecimento de Gás em nosso site. Descubra painéis de comutação automatizados, coletores e sistemas de segurança integrados em conformidade com a ISO 13485 para laboratórios/instalações médicas.
Forneça a classificação de proteção IP, a capacidade máxima de carga estática para racks de cilindros e as classificações de zonas à prova de explosão certificadas (por exemplo, ATEX/IECEx Zona 1). Especifique a compatibilidade do material para gases corrosivos (por exemplo, Cl₂, NH₃). Cenários de uso: ambientes perigosos, como laboratórios químicos, armazenamento de gás industrial ou fábricas de semicondutores que exigem contenção de vazamentos e isolamento da fonte de ignição.
Detalhe a precisão da regulação de pressão (por exemplo, ±0,5% FS), as faixas de pressão de entrada/saída (bar) e a capacidade de vazão (Nm³/h). Esclareça a conformidade com a ISO 2503 para sistemas de gases medicinais/laboratoriais. Cenários de uso: Controle de gás de precisão em instrumentos de HPLC, máquinas de corte a laser ou reatores biofarmacêuticos que exigem pressão estável em meio a flutuações de fluxo.
Indique a taxa de retenção de partículas (µm) para válvulas de diafragma VCR, a frequência máxima de ciclagem (ciclos/min) e a viscosidade permitida do fluido (cP). Inclua dados da curva de temperatura/pressão para conjuntos limpos a vapor. Cenários de uso: Manuseio de gás/líquido de altíssima pureza no processamento de wafers semicondutores, produção de vacinas ou instalações nucleares que exigem contaminação zero.