O grupo de válvulas redutoras de pressão bilaterais automáticas simples TKF 4 foi desenvolvido para compradores que comparam sistemas de comutação centralizada para fornecimento de gás de alta pureza, sistemas de gás para processos semicondutores, painéis de gás para laboratórios, gabinetes para cilindros e projetos de controle de fluidos industriais. Confira os detalhes e imagens do produto abaixo e compare com outros equipamentos da Kuzu para opções de fornecimento compatíveis.
Grupo de válvulas redutoras de pressão com comutação automática bilateral simples TKF-4. Características estruturais:
Adotar um redutor de pressão de dois estágios
Botão da válvula de diafragma com visor indicador de interruptor
Configuração opcional de válvula de segurança
A capacidade de expansão pode ser alcançada através do uso de conexões de manifold.
Adotando a instalação montada na parede
Dispositivo de alarme de pressão opcional
Manômetro destacável opcional
Grupo de válvulas redutoras de pressão bilaterais simples com comutação automática TKF-4 - Parâmetros técnicos:
Pressão máxima de entrada: 3000 PSI
Pressão de saída: 0-25 PSI, 0-50 PSI
0-100 psig, 0-250 psig
Pressão de prova: 1,5 vezes a pressão de entrada para testes de segurança.
Temperatura de operação: -40°C a +100°C
Taxa de vazamento do regulador de pressão: 2x10 atm cc/s He
CV:0,08



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Sim. Acesse a Série de Comutação para Fornecimento de Gás em nosso site. Descubra painéis de comutação automatizados, coletores e sistemas de segurança integrados em conformidade com a ISO 13485 para laboratórios/instalações médicas.
Forneça a classificação de proteção IP, a capacidade máxima de carga estática para racks de cilindros e as classificações de zonas à prova de explosão certificadas (por exemplo, ATEX/IECEx Zona 1). Especifique a compatibilidade do material para gases corrosivos (por exemplo, Cl₂, NH₃). Cenários de uso: ambientes perigosos, como laboratórios químicos, armazenamento de gás industrial ou fábricas de semicondutores que exigem contenção de vazamentos e isolamento da fonte de ignição.
Detalhe a precisão da regulação de pressão (por exemplo, ±0,5% FS), as faixas de pressão de entrada/saída (bar) e a capacidade de vazão (Nm³/h). Esclareça a conformidade com a ISO 2503 para sistemas de gases medicinais/laboratoriais. Cenários de uso: Controle de gás de precisão em instrumentos de HPLC, máquinas de corte a laser ou reatores biofarmacêuticos que exigem pressão estável em meio a flutuações de fluxo.
Indique a taxa de retenção de partículas (µm) para válvulas de diafragma VCR, a frequência máxima de ciclagem (ciclos/min) e a viscosidade permitida do fluido (cP). Inclua dados da curva de temperatura/pressão para conjuntos limpos a vapor. Cenários de uso: Manuseio de gás/líquido de altíssima pureza no processamento de wafers semicondutores, produção de vacinas ou instalações nucleares que exigem contaminação zero.