A Válvula de Diafragma para Conexão de Tubo para Controle de Gases de Alta Pureza é ideal para compradores que comparam válvulas de conexão de tubo para fornecimento de gases de alta pureza, sistemas de gases para processos semicondutores, painéis de gases para laboratórios, gabinetes para cilindros e projetos de controle de fluidos industriais. Confira os detalhes e imagens dos produtos abaixo e compare com outros equipamentos da Kuzu para encontrar opções de fornecimento compatíveis.
Parâmetros técnicos da válvula de diafragma com revestimento de cartão:
Pressão máxima de entrada: 500 psi
Resistência à pressão: 1000 psi, 3000 psi (opcional)
Pressão de saída: 0~25 PSI, 0~50 PSI, 0~100 PSI, 0~200 PSI
Pressão de prova para testes de segurança: 1,5 vezes a pressão de entrada.
Temperatura de operação aplicável: -40°C a +100°C
Taxa de vazamento: 2 * 10 atm cc/s He
CV:1.0
Corpo da matriz: SS316L
Tampa do capô: SS316L
Junta da sede da válvula: PCTFE
Filme do diafragma: liga Hastelloy


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Forneça a classificação de proteção IP, a capacidade máxima de carga estática para racks de cilindros e as classificações de zonas à prova de explosão certificadas (por exemplo, ATEX/IECEx Zona 1). Especifique a compatibilidade do material para gases corrosivos (por exemplo, Cl₂, NH₃). Cenários de uso: ambientes perigosos, como laboratórios químicos, armazenamento de gás industrial ou fábricas de semicondutores que exigem contenção de vazamentos e isolamento da fonte de ignição.
Detalhe a precisão da regulação de pressão (por exemplo, ±0,5% FS), as faixas de pressão de entrada/saída (bar) e a capacidade de vazão (Nm³/h). Esclareça a conformidade com a ISO 2503 para sistemas de gases medicinais/laboratoriais. Cenários de uso: Controle de gás de precisão em instrumentos de HPLC, máquinas de corte a laser ou reatores biofarmacêuticos que exigem pressão estável em meio a flutuações de fluxo.
Indique a taxa de retenção de partículas (µm) para válvulas de diafragma VCR, a frequência máxima de ciclagem (ciclos/min) e a viscosidade permitida do fluido (cP). Inclua dados da curva de temperatura/pressão para conjuntos limpos a vapor. Cenários de uso: Manuseio de gás/líquido de altíssima pureza no processamento de wafers semicondutores, produção de vacinas ou instalações nucleares que exigem contaminação zero.